T客邦 August 03, 2023
中國首台28nm曝光機有望年底交付 華為已拿下EUV曝光專利Ab3cb79c8d2e7a932328ff8281c9d885

 

曝光機是決定半導體生產製成水平高低的核心技術,包含光學系統、微電子系統、電腦系統、精密機械系統、控制系統等構件,極為複雜精密。而隨著半導體技術進入到5nm節點以內,對EUV曝光機的需求也不斷增長,目前全球只有ASML一家公司能夠生產EUV曝光機,可以說掌握了半導體生產的關鍵。

面對制裁,中國近年希望能把半導體生產的各種設備國產化,曝光機也是重要的一環。最近中媒報導,上海微電子正極力研發28奈米DUV曝光機,預計在2023年底將國產第一台SSA/800-10W曝光機交付市場。

曝光機可分為DUV、EUV兩大類,目前由荷蘭ASML佔絕對壟斷地位,日本的尼康(Nikon)、佳能(Canon)也有很強的實力。在最先進製程的EUV曝光機方面,中國相比於外國起步晚了50年,像是上海微電子的技術就與國外巨頭有很大的差距。

但在非最先進製程的中高階曝光機方面,SSA/800-10W曝光機就屬於這一類的產品,上海微電子似乎已經有自主生產的能力。

原本美國制裁的政策並沒有阻止中國廠商向ASML購買非最先進製程的中高階曝光機,但是《路透》6月30日報導,美國和荷蘭已達成協議,進一步管制晶片設備輸中。今年七月,荷蘭政府就宣布新法規,規定ASML的DUV曝光機也不能直接輸出中國。

而就在相隔一個月,上海微電子就被爆料年底可交付28奈米DUV曝光機,這個時間點也相當微妙。

不過,曝光機只是整個半導體製造產業鏈中的一環,還涉及到光阻劑、惰性氣體、光源、物鏡、塗膠顯影設備、光罩等諸多環節。想要完全變成「國產」,也沒有這麼簡單。

去年據中媒報導,北京政府撥款1400億美元(折合約4.3兆元新台幣)要振興本土半導體產業,補助包括購買中國製造的晶片生產設備等。而上海微電子裝備和其它的中國同業,主要把產品賣給中國國內晶圓廠的廠商為最大的受惠者。

近年來,ASML已經成為世界半導體技術的中心位置。去年ASML兩次提高了生產目標,希望到2025年,其年出貨量能達到約600台DUV(深紫外光)曝光機以及90台EUV(極紫外光)曝光機。

 

 

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